I. Recursos principais e inovações tecnológicas Tecnologia composta de diamante
CVD É usado o revestimento de diamante CVD ou a tecnologia de revestimento do tipo DLC diamante, com uma dureza superficial de HV 3000-4500 e a resistência do desgaste aumentada em mais de 10 vezes
A condutividade térmica excede 600 W/(M · K), que é 3 vezes a das placas de alumínio tradicionais, alcançando a dissipação de calor eficiente
Tratamento de superfície de precisão
Pulse plasma polishing technology, surface roughness Ra≤0.05μm, reflectivity>95%
Micro-arC Oxidação gera uma camada cerâmica 30-50 μm com uma tensão de ruptura de 2000v/mm
Lightweight structural design Honeycomb aluminum sandwich structure density 1.2g/cm³, compressive strength>50mpa
A superfície microtexturizada a laser reduz o coeficiente de arrasto em 15%, adequado para cenas esportivas de alta velocidade
II. Principais áreas de aplicação
Indústria cenários de aplicação típicos Requisitos de desempenho
Módulo RF de Estação Base 5G de Dissipação de Calor 5G
Embalagem de diodo a laser Condutividade térmica maior ou igual a 5 0 0w/(m · k), perda dielétrica <0,001
Semiconductor Manufacturing
Robô de transferência de wafer, resistência à superfície do revestimento da câmara de vácuo> 10?⁴Ω,
derramamento de partículas <5/m²
Aerospace Surço óptico de satélite, resistência à temperatura 2000 graus /30s,
Coeficiente de expansão térmica de arestas de aeronave hipersônica de fibra de carbono que corresponde a fibra de carbono
Now Veículos de energia substrato do módulo de carboneto de silício, excelente resistência à fragilidade de hidrogênio
Resistência ao contato da placa bipolar de célula a combustível de hidrogênio <1mΩ · cm²
Equipamento de ponta Habitação de redutores harmônicos do robô industrial,
TCT REGIÇÃO DE REGIDADE-PELIÇÃO DO SCANNER DO SCANNER ＞ 80GPA/(g/cm³)
Iii. Avanços de processo e evolução padrão
Manufacturing Technology
Deposição de compósito de gradiente: Al/Diamond Interface Força ＞ 200MPa alcançada pela Sputtering de Magnetron
Liga a laser seletiva: geração in situ da fase de reforço de AL₃C em áreas-chave
Padrões de teste
Padrão militar mil-dtl -32541 d: especifica a resistência à radiação de materiais compostos à base de alumínio de diamante
IEC 62830-8: Especificação para detecção de defeitos de superfície de revestimentos de diamante para semicondutores
